T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法.pdf
文档页数：11文档大小：2.71MB文档格式：pdfICS23.160 CCS J 78 T 团 体 标 准 T/CIE132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法 Test methods for thin film thickness of magnetron sputtering equipment 2022-08-10发布 2022-08-10实施 中国电子学会发布 中国标准出版社 出版 T/CIE132-2022 目 次 前言 Ⅲ 1范围……………… …………1 2规范性引用文件………… ……………………………………1 3术语和定义…… ……….1 4测试方法………… ………………2 4.1设备基本条件测试…………………………2 4.2镀膜精度测试……………………………………………………………………3 I T/CIE132-2022 前言 本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草. 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别专利的责任. 本文件由中国电子学会提出并归口. 本文件起草单位：北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、 北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储（北京）科技有限公司、深圳存 科技有限责任公司. 本文件主要起草人：赵巍胜、张博宇、程厚义、Sylvain EIMER、彭守仲、许涌、Pierre VALLOBRA、 王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆. Ⅲ ...
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