SJ/T 310802016 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法.pdf

SJ/T 31080-2016 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法.pdf文档页数:6文档大小:2.49MB文档格式:pdf ICS31-550 L01 备案号: SJ 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T31080—2016 代替SJ/T31080—1994 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查 评定方法 Pattern generat...

SJ/T 31080-2016 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法.pdf

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ICS31-550 L01 备案号: SJ 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T31080—2016 代替SJ/T31080—1994 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查 评定方法 Pattern generator for photomask making requirements of readiness and methods of inspection assessment 2016-01-15发布 2016-06-01实施 中华人民共和国工业和信息化部 发布 SJ SJ/T31080—2016 前言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草. 本标准代替并废止SJ/T31080一1994《图形发生器完好要求和检查评定方法》. 本标准与SJ/T31080一1994相比,除编辑性修改外主要技术变化如下: 一标准名称“图形发生器完好要求和检查评定方法”修改为“光掩模制作用图形发生器完好要求 和检查评定方法”; 一第1章中“本标准规定了图形发生器的完好要求和检查评定方法”修改为“本标准规定了光掩 膜制作用图形发生器的完好要求和检查评定方法”; —增加了“规范性引用文件”一章; 一对3.1中间掩模的第二名称“初级版”改为“初缩版”; 一对“工作台正交性”技术指标的描述做了修改; 一对4.1.5中“光源均匀性为±5%”改为“光源非均匀性为5%”; 一对4.1.6中“采用HP5501A激光干涉仪”改为“采用双频激光干涉仪”; 一对“计算机控制系统”的内容做了修改; 一对“评定方法”的描述做了修改. 本标准由中国电子技术标准化研究院归口. 本标准起草单位:中国电子科技集团公司第十三研究所、中国电子节能技术协会、中国电子科技集 团公司第五十四研究所. 本标准主要起草人:张倩、石少青、辛士卓、朱石平、王丽英、侯文明、田伟、严海若. 本标准的历次版本发布情况为: —SJ/T31080—1994. I SJ/T31080—2016 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法 1范围 本标准规定了光掩模制作用图形发生器的完好要求和检查评定方法. 本标准适用于3600F型图形发生器,其他型号图形发生器(如3600型、EM250型等)可参照本标准并 结合该设备的具体指标检查评定. 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的.凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件. 凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括的修改单)适用于本文件. SJ/T31001一2016设备完好要求和检查评定方法编写导则 SJ/T31002一2016企业设备维护保养通则 3术语和定义 下列术语和定义适用于本文件. 3.1 中间掩模reticle 初缩版 用图形发生器制作在感光板上,其图形尺寸一般大于集成电路实际尺寸的掩模. 3.2 可变狭缝variable aperture 在图形发生器中用于产生各种图形的机构,通常由两组可开合的刀口组成. 4完好要求 4.1主要技术指标 4.1.1工作台定位精度为±0.25. 4.1.2150mm全程范围内的总精度为士0.60m. 4.1.3工作台正交性为±0.5”. 4.1.4可制作曝光面积为150mm×150mm的掩模. 4.1.5具有两种曝光光源,即闪光灯光源和汞灯光源,可分别制作乳胶干板和铬版,光源非均匀性为 5%. 4.1.6采用双频激光干涉仪进行闭环控制,最小输入数据0.1. 4.1.7可变狭缝在像面可产生线宽2m.至1.5mm的矩形,狭缝可围绕中心旋转0°~90°. 1 ...

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