SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法.pdf
文档页数：10文档大小：3.71MB文档格式：pdfICS29.045 H82 备案号：50550-2015 SJ 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T11493—2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法 Test method for measuring nitrogen concentration in silicon substrates by secondary ion mass spectrometry 2015-04-30发布 2015-10-01实施 中华人民共和国工业和信息化部发布 NU SJ/T11493—2015 前 言 本标准按照GB/T1.1一2009制定的规则起草. 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任. 本标准由全国半导体设备与材料标准化技术委员会(SAC/TC203)归口. 本标准起草单位：信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、 苏州晶瑞化学有限公司、天津中环领先材料技术有限公可. 本标准主要起草人：马农 口 李翔、付雪涛. INDUSTRI SJ STANDARDS ...
本文来自画船听雨眠投稿，不代表文丁图集立场，如若转载，请注明出处：https://www.2b34.com/blog/176087.html
微信扫一扫 
